- 高分辨率:使用超薄氮化硅薄膜作为观察窗口,提供原子级分辨率
- 耐高温:最高可在1300℃下持续工作超过6小时,耐受快速升降温冲击
- 耐压:超薄氮化硅薄膜耐受气体压力大于1 atm
指标名称 |
参数 |
|||
型号 |
HEM-NR-HT |
HEM-NR-ET |
HEM-NR-GH |
HEM-NR-LQ |
类型 |
原位加热 |
原位电化学 |
原位气体加热 |
原位液体 |
窗口膜厚 |
10 ~ 50 nm |
30 ~ 50 nm |
20 ~ 50 nm |
50 nm |
样品池厚度 |
- |
100 ~ 200 nm |
100 nm ~ 2 μm |
100 ~ 500 nm |
温度范围 |
RT ~ 1300℃ |
RT |
RT ~ 800℃ |
RT ~ 500℃ |
温度精度 |
≥98% |
- |
≥98% |
≥98% |
最大升温速率 |
>1000℃ |
- |
>1000℃ |
>100℃ |
分辨率 |
≤0.1 nm |
≤1 nm |
≤0.1 nm |
≤1 nm |